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光刻 (photo)工艺中resist异常导致干法刻蚀 (dry etch)的特征图形异常 干法刻蚀偏差 (etch bias): Dry etch反应过程、非等向蚀刻原理以及sidewall protect 一、dry etch反应过程 dry etch反应过程概括起来可分为四个过程： ①plasma中反应物（radical、离子）的形成（解离，离子化）； ②反应物朝. 以下将简要介绍dry etch工艺中常见的profile类型、产生原理和改善方法。 一、bowing：弓形，sidewall弯曲。 产生原理包括离子反射、阳离子撞击、o2过多等。 改善方法包括调.
Dry martini因其中含有干味美思（dry vermouth）而得名。 味美思会给酒增加甜度，现在的 dry martini 也用来指低甜度、少加味美思的 martini，经典dry martini是 金酒 和味美思按6:1的比例混合。
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